קובץ:Cudeposition.gif
קפיצה לניווט
קפיצה לחיפוש
אין גרסה ברזולוציה גבוהה יותר.
Cudeposition.gif (320 × 380 פיקסלים, גודל הקובץ: 669 ק"ב, סוג MIME: image/gif, בלולאה, 187 תמונות, 19 שניות)
לתשומת ליבך: בשל מגבלות טכניות, תמונות ממוזערות של תמונות GIF בעלות רזולוציה גבוהה כמו זאת לא תהיינה מונפשות.
תקציר
| תיאור |
Molecular dynamics computer simulation of the deposition of a single copper atom with a kinetic energy of 1 eV on a copper surface. Technical details: cross section of two atom layers in the middle of a larger (10x10x10 unit cells) 3D simulation cell. Simulation made with Sabochick-Lam embedded-atom method potential, Berendsen temperature control used only at the outer boundaries to scale temperature down to 0 K. Initial temperature 0 K (cell prerelaxed to allow for surface relaxation inwards). This kind of processes occur in reality during physical vapour deposition. |
| תאריך יצירה | |
| מקור | נוצר על־ידי מעלה היצירה |
| יוצר | Knordlun |
רישיון
|
היצירה הזאת שוחררה לנחלת הכלל על־ידי היוצר שלה, Knordlun. זה תקף בכל העולם. יש מדינות שבהן הדבר אינו אפשרי על פי חוק, אם כך: Knordlun מעניק לכל אחד את הזכות להשתמש ביצירה הזאת לכל מטרה, ללא שום תנאי, אלא אם כן תנאים כאלה נדרשים לפי החוק. |
היסטוריית הקובץ
ניתן ללחוץ על תאריך/שעה כדי לראות את הקובץ כפי שנראה באותו זמן.
| תאריך/שעה | תמונה ממוזערת | ממדים | משתמש | הערה | |
|---|---|---|---|---|---|
| נוכחית | 13:39, 30 ביולי 2007 | | 380 × 320 (669 ק"ב) | wikimediacommons>Knordlun | {{Information |Description=Molecular dynamics computer simulation of the deposition of a single copper atom on a copper surface. Technical details: cross section of two atom layers in the middle of a larger 3D simulation cell. Simulation made with Sabochi |
שימוש בקובץ
הדף הבא משתמש בקובץ הזה:
